反应腔体：横流模式的单腔反应腔/喷淋模式的双腔反应腔

衬底规格：4-12寸单片；三维复杂衬底/粉末与颗粒/多孔及高纵深比材料；RT-400 oC，控制精度±0.5 oC@单腔；RT-500 oC，控制精度±0.5 oC@双腔

阀门：Swagelok专用ALD阀门，耐热温度200 oC

前驱体源：液态、固态、气态以及臭氧源，容器标准50 mL挥发式容器和100 mL载气辅助式容器，其他规格可定制；最高可配备8路前驱体源

载气：N2或者Ar，质量流量控制器

管路源容器加热温度：配可拆卸加热套，RT-250 oC，控制精度±0.5 oC

真空系统：油泵、防腐油泵、干泵可选

压力传感器：检测范围1000-2.3*10-4 Torr

真空管路：烘烤至200℃，且真空泵前级配置热阱，加热温度300℃

控制：触摸屏+PLC

机柜：可移动铝型材框架，不锈钢面板

最小尺寸：720*700*1000mm

最大尺寸：1000*1000*1000 mm

选配：臭氧发生器/粉末沉积盘/手套箱耦合/QCM；尾气处理装置