反应腔体：横流模式的单腔反应腔/喷淋模式的双腔反应腔

等离子体产生方式：电容式CCP/电感耦合ICP

衬底规格：4-8寸单片；三维复杂衬底/粉末与颗粒/多孔及高纵深比材料；RT-400 oC，控制精度±1 oC @单腔；RT-500  oC，控制精度±1 oC @双腔

阀门：Swagelok专用ALD阀门，耐热温度200  oC

前驱体源：液态、固态、气态以及臭氧源，容器标准50 mL挥发式容器和100 mL载气辅助式容器，其他规格可定制；最高可配备8路前驱体源

等离子体气源：H2/O2/NH3/ N2

载气：Ar，质量流量控制器

管路源容器加热温度：配可拆卸加热套，RT-250  oC，控制精度±1 oC

真空系统：油泵、防腐油泵、干泵可选

压力传感器：检测范围1000-2.3*10-4 Torr

真空管路：烘烤至200℃，且真空泵前级配置热阱，加热温度300℃

控制：触摸屏+PLC

机柜：可移动铝型材框架，不锈钢面板

尺寸：1280*800*1720mm

选配：臭氧发生器/粉末沉积盘/手套箱耦合/ QCM；尾气处理装置