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磁控离子溅射仪 GVC-2000
1.采用单片机单片机作为处理器,具有自主知识产权,扩展性好,可为用户进行定制化开发
2.5.1英寸触摸操作液晶显示屏,可现实设定溅射电流、溅射时间,工作溅射电流、剩余溅射时间等参数
3.溅射电流可在5-45mA内随意调节,最小步长为1mA
4.溅射真空度独立控制,与溅射电流无关,且最小调节量0.1Pa
5.系统提供金、铂对于空气和氩气的工作参数,可直接使用。同时提供3种自定义靶材,用户可根据自己需求设定工作参数
6.溅射时间设定范围为1-600秒,最小调节量为1秒
7.具备溅射电流、真空度双重互锁,安全可靠,任一调节触发,系统即可停止工作,防止因为误操作导致设备损坏
8.极限真空优于1Pa,真空泵抽速为1L/s
9.系统具备实时曲线显示溅射电流和真空度功能、屏幕亮度调节功能、系统工作时间和靶材使用时间显示等功能,非常方便用户了解系统工作状态